Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

जिरकोनियम अक्साइड ZrO₂ |हाफनियम अक्साइड HfO₂ 99.9%

विवरण

जिरकोनियम अक्साइड ZrO₂, वा Zirconium डाइअक्साइड, पानीमा व्यावहारिक रूपमा अघुलनशील, र HCl र HNO मा हल्का घुलनशील₃, पिघलने बिन्दु 2700°C, घनत्व 5.85g/cm³, उच्च पिघलने बिन्दु, उच्च प्रतिरोधकता, उच्च अपवर्तक सूचकांक र कम थर्मल विस्तार गुणांक गुणहरू भएको गन्धरहित क्रिस्टल हो, जुन महत्त्वपूर्ण उच्च तापमान प्रतिरोधी सामग्री, सिरेमिक इन्सुलेट सामग्री, सिरेमिक सनस्क्रिन र कृत्रिम रत्नहरूको लागि कच्चा माल हो।ZrO₂सामान्य सामानहरू हुन् जसलाई चिसो, सुख्खा र राम्रोसँग हावा चल्ने ठाउँमा राख्नु पर्छ, कन्टेनरलाई कडा रूपमा बन्द र बलियो क्षारबाट टाढा राख्नुहोस्।जिरकोनियम अक्साइड ZrO_२सामान्यतया धातु zirconium र zirconium यौगिकहरू, उच्च आवृत्ति सिरेमिक, घर्षण सामग्री, सिरेमिक पिग्मेन्ट, अपवर्तक सामग्री र अप्टिकल ग्लास बनाउन प्रयोग गरिन्छ।

डेलिभरी

जिरकोनियम अक्साइड वा जिरकोनियम डाइअक्साइड ZrO₂ZrO को शुद्धता संग₂+HfO₂≥ 99.9% र हाफनियम अक्साइड HfO₂HfO को शुद्धता संग₂+ZrO₂≥99.9% Western Minmetals (SC) Corporation मा 60-150mesh पाउडरको आकारमा, 25kg प्लास्टिकको झोलामा कार्डबोर्ड ड्रम बाहिर, वा अनुकूलित विशिष्टताको रूपमा डेलिभर गर्न सकिन्छ।

अब सोधपुछ

विवरणहरू

ट्यागहरू

प्राविधिक विशिष्टता

ZrO₂र HfO₂

जिरकोनियम अक्साइड वा जिरकोनियम डाइअक्साइड ZrO₂ ZrO को शुद्धता संग₂+HfO_२≥ 99.9% र हाफनियम अक्साइड HfO₂HfO को शुद्धता संग₂+ZrO₂≥99.9% Western Minmetals (SC) Corporation मा 60-150mesh पाउडरको आकारमा, 25kg प्लास्टिकको झोलामा कार्डबोर्ड ड्रम बाहिर, वा अनुकूलित विशिष्टताको रूपमा डेलिभर गर्न सकिन्छ।

वस्तुहरू	HfO₂	ZrO₂
उपस्थिति	सेतो पाउडर	सेतो पाउडर
आणविक वजन	210.49	१२३.२२
घनत्व	९.६८ ग्राम/सेमी³	५.८५ ग्राम/सेमी³
पग्लिने बिन्दु	२७५८ डिग्री सेल्सियस	2700 °C
CAS नम्बर	१२०५५-२३-१	१३१४-२३-४

छैन।	वस्तु			मानक विशिष्टता
1	शुद्धता			अशुद्धता (PCT अधिकतम प्रत्येक)	साइज
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	९९.९%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/th 0.005	60-150 mesh
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	९९.९%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100mesh
4	प्याकिङ			बाहिर कार्डबोर्ड ड्रमको साथ प्लास्टिकको झोलामा 25kg

हाफनियम अक्साइड HfO₂, या Hafnium डाइअक्साइड, hafnium को एक यौगिक, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, पिघलने बिन्दु 2758°C, घनत्व 9.68g/cm³, पानी, HCl र HNO मा अघुलनशील छ₃तर H मा घुलनशील₂SO₄र HF।ह्याफनियम अक्साइड HfO₂फराकिलो ब्यान्ड ग्याप र उच्च डाइलेक्ट्रिक स्थिरता भएको सिरेमिक सामग्री हो।हाफनियम अक्साइड HfO₂MOSFET मा परम्परागत SiO₂/Si संरचनाको विकासको आकार सीमा समस्या समाधान गर्न मेटल अक्साइड सेमीकन्डक्टर फिल्ड इफेक्ट ट्यूबको गेट इन्सुलेटर सिलिकालाई प्रतिस्थापन गर्ने सबैभन्दा धेरै सम्भावना छ, त्यसैले यो माइक्रोइलेक्ट्रोनिक क्षेत्रमा प्रयोग हुने उन्नत सामग्री हो।यो पनि व्यापक रूपमा hafnium धातु, hafnium यौगिकहरू, अपवर्तक सामग्री, विरोधी रेडियोधर्मी कोटिंग सामग्री, र उत्प्रेरक बनाउन प्रयोग गरिन्छ।